أخبار الشركة عن الاختراقات والتحديات في تقنية الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية في صناعة أشباه الموصلات

الاختراقات والتحديات التي تواجهها التصوير الشعاعي بالأشعة فوق البنفسجية في تصنيع أشباه الموصلات

مع التقدم المستمر لتكنولوجيا الدوائر المتكاملة، أصبح السعي إلى أبعاد أصغر وارتفاع الدقة فائقة ملحوظا بشكل متزايد.تكافح تقنيات التصوير الضوئي التقليدية لمواجهة التحديات المتزايدة المتطلبة للتصغيرلتلبية هذه التحديات، برزت الطباعة فوق البنفسجية على بعد 172 نانومتر كالتكنولوجيا الواعدة بسبب دقة عالية للغاية.هذه التقنية تجمع بين المزايا المزدوجة للتعرض المتعدد والقناع المتقدم، مما يجلب حلا جديدا لتصميم الدوائر المتكاملة ويساعد على الانتقال نحو عصر جديد من الدقة فائقة.

التصوير الحجري فوق البنفسجي، خطوة رئيسية في تصنيع أشباه الموصلات يعتمد على استخدام الضوء فوق البنفسجيالذي يخلق النمط المطلوب من خلال التفاعلات الكيميائيةمع زيادة تحديات التصغير، أصبحت تقنيات الطباعة الحجرية التقليدية بـ 248 نانومتر و 193 نانومتر غير كافية بشكل متزايد.مع طول الموجة الأقصر والقرار فائق الارتفاع الناتج، أصبحت بديلاً مثالياً لتكنولوجيا التصوير الحجري فوق البنفسجية المتطرفة الحالية (EUV). طول الموجة فوق البنفسجية 172nm يتيح تفاصيل الأنماط الدقيقة وتخفيضات أكبر في حجم العقدة ،مما يعزز بشكل كبير تقدم تكنولوجيا تصنيع أشباه الموصلات. تكنولوجيا التصوير الحجري 172nm تستخدم أطوال موجة أقصر لتحقيق تفاصيل نمط دقيقة، مما يدفع التقدم التكنولوجي.

تكنولوجيا التعرض المتعدد، وهي نهج رئيسي لمعالجة اختناق الدقة في التصوير الضوئي، تعتمد على نمط متكرر لنفس المنطقة من خلال التعرض المتعدد،وبالتالي تحسين كل من دقة الدقة والنمطفي مجال التصوير الحجري للأشعة فوق البنفسجية 172nm ، يمكن تنفيذ تكنولوجيا التعرض المتعدد من خلال الطرق التالية.

تحسن النمطية المتعددة الدقة من خلال إجراء مرورات متعددة. وتشمل الأساليب الشائعة الدقة الفرعية والنمطية المزدوجة.
ميزات مساعدة الدقة الفرعية (SRAF): تقسم ميزات مساعدة الدقة الفرعية نمط التصميم إلى مناطق تعرض متعددة. باستخدام ميزات المساعدة المصممة بعناية ، يمكن أن تتمكن من تقسيم نمط التصميم إلى مناطق تعرض متعددة.أنها تتغلب بفعالية على تشويه النمط الناجم عن الآثار البصريةهذه الطريقة تضمن نمطاً واضحاً ومتسقاً بعد كل تعرض.

قناع تحويل المرحلة (PSM): من خلال ضبط مرحلة القناع بدقة ، يتم تغيير جبهة الموجة للضوء المتوقع ، وبالتالي تحسين الدقة وتقليل آثار الانعكاس.أثناء عملية نمط متعدد، يقلل PSM بشكل كبير من انحراف النمط الناجم عن تماسك موجة الضوء. النمط المزدوج (DP):نمط معقد يتم تفكيكه إلى مكونين مستقلين ويكمل من خلال اثنين من التعرض في أوقات مختلفةيزيد النمط المزدوج بشكل ملحوظ من دقة النمط مع تخفيف القيود على دقة التصوير الحجري.

ومع ذلك، يواجه هذا المزيج التكنولوجي أيضاً عددًا من التحديات. تعقيد الإنتاج والتكاليف العالية هي التحديات الرئيسية.
لا شك أن إدخال تكنولوجيا النمط المتعدد يزيد من تعقيد الإنتاج، مما يتطلب التحكم الدقيق في كل خطوة، بما في ذلك مقاومة الضوء، القناع، ومصدر الضوء.تكنولوجيا الأقنعة المتقدمة مكلفة نسبياً لإنتاجها، والتي تتطلب معدات صناعة أقنعة متطورة للغاية والدعم التقني، مما يزيد بلا شك من تكاليف الإنتاج الإجمالية.
باختصار، أدى دمج التصوير الحجري الأشعاعي فوق البنفسجية بعرض 172nm مع أنماط متعددة وتكنولوجيا قناع متقدمة إلى إحداث اختراق في الدقة العالية للغاية في تصنيع أشباه الموصلات.هذا المزيج المبتكر لا يضمن فقط دقة النمط، ولكن أيضا تحسين الأداء العام واستقرار الدوائر المتكاملة. على الرغم من التحديات الحالية للتصميم والإنتاج، مع التقدم المستمر في التكنولوجيا،لدينا سبب للاعتقاد بأن تطبيق هذه التقنيات المتطورة سوف يدفع بصورة قوية صناعة أشباه الموصلات نحو أبعاد أصغر وكثافة تكامل أعلى.